20874-2003 表面安装集成电路试验用插座通用规范
作者:标准资料网 时间:2024-04-28 02:37:51 浏览:8778
来源:标准资料网
基本信息
标准名称: | 表面安装集成电路试验用插座通用规范 |
替代情况: | 废止时间为2005-02-23; |
发布日期: | |
实施日期: | 2005-02-23 |
首发日期: | |
作废日期: | |
出版日期: | |
适用范围
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所属分类: 电子元器件与信息技术 电子设备专用材料 零件 结构件 电子技术专用材料
【英文标准名称】:SpecificationforPressureVesselPlates,AlloySteel,Quenched-andTempered-,Chromium-MolybdenumandChromium-Molybdenum-Vanadium
【原文标准名称】:压力容器用经回火和淬火的铬钼,铬钼钒及铬钼钒钛硼合金钢板规范
【标准号】:ANSI/ASTMA542/A542M-1999
【标准状态】:作废
【国别】:美国
【发布日期】:1999
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国国家标准学会(ANSI)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:压力容器;钢;板材
【英文主题词】:pressurevessels;boards;steels
【摘要】:
【中国标准分类号】:J74;H46
【国际标准分类号】:77_140_30
【页数】:
【正文语种】:英语
基本信息
标准名称: | 硅钡铝、硅钙钡和硅钙钡铝合金 铝、钡、铁、钙、锰、铜、铬、镍和磷含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法 |
英文名称: | Silicon-barium-aluminum alloy silicon-calcium-barium alloy silicon-calcium-barium-aluminum alloy-Determination of aluminum barium ferrum calcium manganese copper chromium nickel phosphor content-Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric MD |
中标分类: |
冶金 >>
金属化学分析方法 >>
钢铁与铁合金分析方法 |
ICS分类: |
冶金 >>
铁合金
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发布部门: | 中华人民共和国工业和信息化部 |
发布日期: | 2010-11-22 |
实施日期: | 2011-03-01 |
首发日期: | |
作废日期: | |
归口单位: | 全国生铁及铁合金标准化技术委员会 |
起草单位: | 济南钢铁集团公司 |
出版社: | 冶金工业出版社 |
出版日期: | 2011-03-01 |
适用范围
本规定了用电感耦合等离子体发射光谱法测定硅钡铝、硅钙钡和硅钙钡铝合金中铝、钡、铁、钙、锰、铜、铬、镍和磷含量的测量方法。
前言
没有内容
目录
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引用标准
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所属分类: 冶金 金属化学分析方法 钢铁与铁合金分析方法 冶金 铁合金